CVD 法制备硅碳负极的核心装备：硅烷沉积、碳源裂解包覆均在流化床内完成，颗粒受热均匀、包覆一致，支持连续化规模生产。
流化床 CVD 连续化制备碳纳米管粉体，可根据催化剂与工艺体系定制反应器结构与操作参数。
在粉体颗粒表面均匀沉积碳、硅等薄膜，改善导电性、循环稳定性等关键性能，适用于电池材料、催化剂载体等。
流化床气相沉积技术在多晶硅及各类功能粉体制备中的工程化应用与放大经验。