颗粒包覆与表面改性解决方案
在粉体颗粒表面均匀沉积薄膜是改善材料性能的重要手段，广泛应用于电池材料、催化剂载体、耐磨粉体等领域。
行业痛点
传统包覆方式均匀性差、批次波动大，难以满足高端材料对一致性的要求。
FBCVD 解决方案
FBCVD 流化床反应器实现颗粒级均匀包覆，通过温度、气量与停留时间控制膜层厚度与结构。
1
颗粒级均匀包覆
每个颗粒均处于流化状态，包覆无死角。
2
膜层可控
厚度、成分与结构通过工艺参数精准调控。
3
多体系适用
碳、硅、氧化物等多种沉积体系。
4
实验到量产
实验型验证工艺，中试/量产型无缝放大。
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