河南嵩瑞新型耐材有限公司
流化床气相沉积反应器FBCVD设备

SR-P 量产型流化床气相沉积反应器

面向硅碳负极、碳纳米管规模化生产的连续型 FBCVD 反应器,单炉处理量大、包覆均匀、支持连续进出料。

单炉处理量50-500 kg/批
沉积温度400-1100 ℃
控温精度±2 ℃
流化气速0.1-1.5 m/s
进料方式连续/批次

产品介绍

产品定位

SR-P 系列为量产级流化床气相沉积(FBCVD)反应器,用于硅烷沉积、碳源裂解包覆等工艺,满足硅碳负极材料吨级连续生产需求,兼顾处理量、包覆均匀性与运行稳定性。

工作原理

物料粉体在反应器内由自下而上的气流作用形成流化状态,颗粒悬浮翻动、受热均匀;硅烷或碳源气体经分布器均匀进入床层,与颗粒充分接触并在其表面发生气相沉积,形成均匀包覆层。流化态有效避免局部过热与沉积不均,是硅碳负极包覆的成熟工艺路线。

技术特点

  • 分区进气与分布器优化设计,流化均匀、有效防聚团
  • 分区控温,沉积温度窗口稳定(±2℃)
  • 连续进出料结构,生产节拍可控,适配量产
  • 配套配气系统、尾气处理系统与安全联锁,满足硅烷安全要求
  • 多点温度、压力、流量监测,工艺可重复性好

技术参数(行业典型参考,具体以定制设计为准)

项目参数
型号SR-P 量产型
反应器规格20-500 kg 级(可定制)
单批次投料量10-50 kg(可定制)
沉积温度≤850-950℃(分区设定)
气源SiH4、C2H2、N2、H2、Ar、CH4 等
进出料方式连续进出料
温度精度±2℃
安全配置硅烷泄漏监测、联锁保护

典型应用

  • 硅碳负极材料 CVD 包覆(吨级连续生产)
  • 碳纳米管粉体改性
  • 颗粒碳包覆与表面处理
  • 粉体材料气相沉积工艺放大

选型参考

SR-P 量产型适用于规模化量产;SR-M 中试型适用于工艺放大验证;SR-L 实验型适用于小试与配方开发。三档联动,支持从实验室到产线的完整放大路径。

常见问题

  • FBCVD 硅烷使用是否安全?参见 FAQ「FBCVD 工艺中硅烷使用的安全要点」
  • 流化床与固定床沉积如何选择?参见 FAQ「流化床与固定床气相沉积的区别」
  • 如何根据产能选型?参见 FAQ「硅碳负极 CVD 设备如何选型」

服务支持

提供工艺设计、设备制造、安装调试与达产服务,可配套配气系统、尾气处理系统与安全联锁整体方案。

技术参数

项目参数单位
单炉处理量50-500 kg/批
沉积温度400-1100 ℃
控温精度±2 ℃
流化气速0.1-1.5 m/s
进料方式连续/批次

常见问题

主流路线是化学气相沉积(CVD)法,其中流化床反应器因气固接触充分、可连续化生产,成为规模化制备硅碳负极的核心设备。

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