CVD 法硅沉积与碳包覆核心装备，气固接触充分，包覆均匀一致。
FBCVD 连续化制备碳纳米管粉体，匹配催化剂与工艺体系。
粉体颗粒表面均匀包覆碳、硅等薄膜，改善材料性能。
流化床气相沉积在多晶硅及功能粉体制备领域的工程应用。
面向高附加值粉体材料的原子层沉积与超均匀纳米包覆装备，基于流化床实现粉体原子级厚度可控包覆。
