多晶硅与粉体制备
面向多晶硅与粉体制备的流化床气相沉积方案，支持高纯粉体沉积与氯化工艺，配套安全与尾气系统。
行业痛点
多晶硅与粉体制备涉及高温、腐蚀性与易燃易爆气体，对设备气密性、安全防护与纯度控制要求极高。
FBCVD 解决方案
采用流化床反应器实现高纯粉体气相沉积，分区控温保证均匀性，配置高性能气密与惰性保护系统，配套尾气处理与安全联锁，满足高纯度与安全合规要求。
1
高纯工艺
流化床均匀沉积，满足粉体纯度要求。
2
气密安全
高性能密封与惰性保护，防泄漏防腐蚀。
3
精准温控
分区控温保障沉积均匀性。
4
达标排放
尾气处理与安全联锁一体化。
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